特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立国際電気

※ ログインすれば出願人(株式会社日立国際電気)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第243位　168件（2015年：第235位　193件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第152位　231件（2015年：第162位　190件）

（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社日立国際電気の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-46415	基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体	2016年 4月 4日
特開 2016-46670	無線通信システム及び無線通信方法	2016年 4月 4日
特開 2016-42561	基板処理装置及び半導体装置の製造方法	2016年 3月31日
特開 2016-39514	同期信号変換装置	2016年 3月22日
特開 2016-33955	基板処理装置、チャンバリッドアセンブリ、半導体装置の製造方法、プログラム及び記録媒体	2016年 3月10日
特開 2016-34042	半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム	2016年 3月10日
特開 2016-34043	半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラムおよび記録媒体	2016年 3月10日
特開 2016-34147	無線通信システム、基地局装置及び無線通信方法	2016年 3月10日
特開 2016-28425	半導体製造に使用される噴射部材、それを有するプラズマ処理装置、および半導体装置の製造方法	2016年 2月25日
特開 2016-25238	基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体	2016年 2月 8日
特開 2016-25262	半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラムおよび記録媒体	2016年 2月 8日
特開 2016-17186	基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラムおよび記録媒体	2016年 2月 1日
特開 2016-18886	基板処理装置、半導体装置の製造方法およびガス整流部	2016年 2月 1日
特開 2016-18907	半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム	2016年 2月 1日
再表 2013-183515	無線通信システム及び無線通信装置	2016年 1月28日

173 件中 151-165 件を表示

... 11

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-46415 2016-46670 2016-42561 2016-39514 2016-33955 2016-34042 2016-34043 2016-34147 2016-28425 2016-25238 2016-25262 2016-17186 2016-18886 2016-18907 2013-183515

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立国際電気の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数