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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第3542位 5件
(2015年:第5202位 3件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第9250位 1件
(2015年:第5375位 2件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2016-196706 | 薄膜堆積の方法 | 2016年11月24日 | |
特表 2016-531203 | スパッタリングターゲットの部分的スプレー修復 | 2016年10月 6日 | |
特表 2016-526233 | 電子素子における金属被覆のための銅合金障壁層およびキャッピング層 | 2016年 9月 1日 | |
特開 2016-148110 | 組織の均一性が改善された高融点金属プレート | 2016年 8月18日 | |
特表 2016-524044 | 高融点金属体のスリップおよび圧力鋳造 | 2016年 8月12日 |
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2016-196706 2016-531203 2016-526233 2016-148110 2016-524044
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6月6日(金) -
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6月10日(火) -
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6月11日(水) -
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6月12日(木) -
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6月13日(金) -
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