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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第3286位 6件 (2016年:第7297位 2件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第8798位 1件 (2016年:第9250位 1件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2017-538972 | 顕微鏡システムにおいて並行撮像を用いることにより合焦画像を生成するための装置および方法 | 2017年12月28日 | |
特表 2017-537328 | マイクロプレート注入器システムのための液体およびプレートセンサ | 2017年12月14日 | |
特表 2017-537543 | 適応雑音消去のための学習期間を制御するシステムおよび方法 | 2017年12月14日 | |
特開 2017-212014 | 並行処理のために顕微鏡画像を区画化するシステムおよび方法 | 2017年11月30日 | |
特開 2017-184762 | 単クローン性細胞のコロニーを選択する方法 | 2017年10月12日 | |
特表 2017-506331 | 電気生理学のための置換可能な接地電極、電極再活性化装置、および関連する方法およびシステム | 2017年 3月 2日 |
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2017-538972 2017-537328 2017-537543 2017-212014 2017-184762 2017-506331
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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