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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第544位 64件 (2011年:第752位 42件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第950位 31件 (2011年:第1114位 23件)
(ランキング更新日:2024年10月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5110792 | ウェハ相互接続用三次元ウェハのための深いビアエアギャップの形成 | 2012年12月26日 | |
特許 5101442 | 希ガスクリーニングステップの追加によって改善したプラズマチャンバ壁のクリーニング | 2012年12月19日 | 共同出願 |
特許 5096556 | 基板の薄層化方法 | 2012年12月12日 | 共同出願 |
特許 5090371 | クロック信号に可変遅延を印加する遅延ラインを備えたデバイス | 2012年12月 5日 | |
特許 5084217 | 交互位相シフトマスク | 2012年11月28日 | |
特許 5080552 | 接合の作製方法 | 2012年11月21日 | |
特許 5080811 | 磁気セルを超高速制御するための方法及び装置 | 2012年11月21日 | |
特許 5047486 | 半導体デバイスの製造方法 | 2012年10月10日 | |
特許 5026065 | 減衰型の位相シフトマスクの製造方法 | 2012年 9月12日 | 共同出願 |
特許 5022549 | 半導体デバイスを移動、及び、積層させる方法 | 2012年 9月12日 | 共同出願 |
特許 5019664 | 高効率で光を発するデバイスおよびそのようなデバイスの製造方法 | 2012年 9月 5日 | 共同出願 |
特許 5020616 | 短波長を持つ電磁放射を用いたリソグラフ方法および装置 | 2012年 9月 5日 | |
特許 5010589 | 半導体デバイス製造方法及びその方法により製造した半導体デバイスを備えた半導体集積回路チップ | 2012年 8月29日 | |
特許 5013859 | 半導体装置、および薄層歪緩和バッファ成長方法 | 2012年 8月29日 | 共同出願 |
特許 5015446 | 二重の完全ケイ化ゲートを形成する方法と前記方法によって得られたデバイス | 2012年 8月29日 | 共同出願 |
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5110792 5101442 5096556 5090371 5084217 5080552 5080811 5047486 5026065 5022549 5019664 5020616 5010589 5013859 5015446
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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