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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第4198位 4件 (2014年: 0件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第23268位 0件 (2014年: 0件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2015-519723 | バリア層との適合性および洗浄性能が改良されたCMP後配合物 | 2015年 7月 9日 | |
特表 2015-517691 | 窒化チタンを含む表面からフォトレジストを剥離するための組成物およびプロセス | 2015年 6月22日 | |
特表 2015-512971 | 組成物を使用したCMP後除去及び使用方法 | 2015年 4月30日 | |
特表 2015-506583 | 窒化チタンを選択的にエッチングするための組成物および方法 | 2015年 3月 2日 |
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2015-519723 2015-517691 2015-512971 2015-506583
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1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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