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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第677位 46件
(
2015年:第483位 67件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第550位 48件
(
2015年:第454位 56件)
(ランキング更新日:2026年10月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-223008 | 堆積プロセスにおける化学前駆体のための容器 | 2016年12月28日 | |
| 特開 2016-219834 | ハロゲン化オルガノアミノシラン前駆体及びそれを含む膜の堆積方法 | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-213461 | 窒化チタンハードマスク及びエッチ残留物除去 | 2016年12月15日 | |
| 特開 2016-208026 | 前駆体材料の送達のための容器及び方法 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-208005 | 低ディッシング銅化学機械平坦化 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-204755 | 高純度6塩化タングステンとその製造方法 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-196632 | 金属化合物が化学的に固定されたコロイド粒子、その製造方法及びその使用 | 2016年11月24日 | |
| 特開 2016-195251 | 窒化チタンハードマスクの選択的除去及びエッチング残留物の除去 | 2016年11月17日 | |
| 特表 2016-532000 | エポキシ液体硬化剤組成物 | 2016年10月13日 | |
| 特開 2016-166421 | シリコン含有膜堆積用の前駆体及びその製造及び使用方法 | 2016年 9月15日 | |
| 特開 2016-167580 | タングステンケミカルメカニカル研磨におけるディッシング低減 | 2016年 9月15日 | |
| 特開 2016-153507 | イオン性/イオノゲン性櫛形コポリマー組成物及びこれを含有するパーソナルケア製品 | 2016年 8月25日 | |
| 特開 2016-149537 | 3Dデバイスを製造するための方法及び前駆体 | 2016年 8月18日 | |
| 特開 2016-147861 | ビスアミノアルコキシシラン化合物及びケイ素含有膜を堆積するためのその使用法 | 2016年 8月18日 | |
| 特開 2016-148834 | シリコンパッシベーションの改善された半水性フォトレジスト又は半導体製造残留物剥離及び洗浄用組成物 | 2016年 8月18日 |
46 件中 1-15 件を表示
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2016-223008 2016-219834 2016-213461 2016-208026 2016-208005 2016-204755 2016-196632 2016-195251 2016-532000 2016-166421 2016-167580 2016-153507 2016-149537 2016-147861 2016-148834
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