アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの特許出願公開一覧 2012年

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出願人名に「アプライドマテリアルズインコーポレイテッド」を含むもの

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公報番号	発明の名称	出願人	公報発行日
特表 2012-533905	バック接点太陽電池及び金属リボンを使用するモノリシックモジュールアセンブリ	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月27日
特開 2012-256900	振幅変調された高周波エネルギーを使用してゲート誘電体をプラズマ窒化するための方法及び装置	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月27日
特開 2012-256942	化学蒸着エッチングチャンバから副生成物の堆積物を除去するインサイチュチャンバ洗浄プロセス	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月27日
特表 2012-533890	ＣＶＤチャンバの流れ制御機構	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月27日
特開 2012-256916	複数領域のヒータを大気から隔離する方法	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月27日
特開 2012-256911	化学機械的研磨のスペクトルに基づく監視のための装置および方法	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月27日
特開 2012-256912	化学機械的研磨のスペクトルに基づく監視のための装置および方法	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月27日
特開 2012-256913	化学機械的研磨のスペクトルに基づく監視のための装置および方法	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月27日
特開 2012-251243	基板プロセス装置でのエッジ堆積を制御する移動可能リング	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月20日
特表 2012-532419	エネルギー貯蔵デバイスにおける３次元銅含有電極の固体電解質界面のためのパッシベーション膜	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月13日
特開 2012-248855	低温ポリシリコンＴＦＴのための多層高品質ゲート誘電体	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月13日
特開 2012-245565	半導体プロセスチャンバ内において使用するための物品	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月13日
特表 2012-531729	基板処理システム	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月10日
特表 2012-531045	ホウ素膜界面技術	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月 6日
特開 2012-238864	走査による熱束処理	アプライドマテリアルズインコーポレイテッド	2012年12月 6日

183 件中 1-15 件を表示

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2012-533905 2012-256900 2012-256942 2012-533890 2012-256916 2012-256911 2012-256912 2012-256913 2012-251243 2012-532419 2012-248855 2012-245565 2012-531729 2012-531045 2012-238864

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