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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特許 5105441 | 界面活性非酵素タンパク質の織布洗浄への利用 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月26日 |
特許 5105387 | イソシアネート基への付加及び活性化C−C二重結合への放射線付加により硬化可能な被覆組成物 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月26日 |
特許 5108951 | 活性のある水素原子を有する不飽和開始剤からのポリエーテルアルコールの製造方法 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月26日 |
特許 5108203 | 最適化された反応圧におけるアルコキシレートの製造 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月26日 |
特許 5108880 | 環状ケトンの製造方法 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月26日 |
特許 5107267 | 置換ビフェニルの製造法 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月26日 |
特許 5108536 | 不均一系触媒作用気相−部分酸化によって少なくとも1種の有機目標化合物を製造する方法 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月26日 |
特許 5110769 | エポキシ化の方法およびこの方法に使用される触媒 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月26日 |
特許 5108792 | 改善されたにおい抑制効果を有する高吸収体 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月26日 |
特許 5101505 | Cu層及びCu/Ni層用の安定化されたエッチング溶液 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月19日 |
特許 5101510 | 新規デヒドロゲナーゼ、その誘導体および光学活性アルカノールの製造方法 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月19日 |
特許 5102222 | 光学活性アルコールを製造するための酵素的還元 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月19日 |
特許 5100945 | ピロリドンおよびN−ビニルピロリドン残留物を処理するための方法 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月19日 |
特許 5101300 | 気相中での液滴重合によって、吸水性ポリマー粒子を製造する方法 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月19日 |
特許 5095903 | 表面を変性するためのアルコキシル化ポリビニルアミンの使用 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 2012年12月12日 |
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5105441 5105387 5108951 5108203 5108880 5107267 5108536 5110769 5108792 5101505 5101510 5102222 5100945 5101300 5095903
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2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月12日(水) -
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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