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エイチピエスピカンパニーリミテッド

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エイチピエスピカンパニーリミテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2025-535976	高圧基板処理装置	2025年10月30日
特開 2025-160915	基板処理装置用ガス管理アセンブリ	2025年10月23日
特表 2025-533308	高圧基板処理装置およびそれに使用される処理ガスライン	2025年10月 3日
特表 2025-531940	半導体素子の製造方法	2025年 9月25日
特表 2025-530508	半導体素子の製造方法	2025年 9月11日
特開 2025-131549	高圧基板処理装置	2025年 9月 9日
特表 2025-525818	高圧基板処理装置	2025年 8月 7日
特表 2025-525644	半導体素子の製造方法	2025年 8月 5日
特開 2025-114519	高圧基板処理装置およびそれに使用されるコールドトラップ	2025年 8月 5日
特表 2025-524903	半導体素子の製造方法	2025年 8月 1日
特表 2025-523516	半導体装置の製造方法	2025年 7月23日
特表 2025-522802	３次元ＮＡＮＤフラッシュメモリアレイの製造方法	2025年 7月17日
特表 2025-521671	薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタの製造方法	2025年 7月10日
特開 2025-93899	高圧基板処理装置	2025年 6月24日
特表 2025-512385	高圧基板処理装置及びそれを用いた基板用高圧化学的気相蒸着方法	2025年 4月17日

21 件中 1-15 件を表示

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2025-535976 2025-160915 2025-533308 2025-531940 2025-530508 2025-131549 2025-525818 2025-525644 2025-114519 2025-524903 2025-523516 2025-522802 2025-521671 2025-93899 2025-512385

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