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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「気相成長株式会社」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-178726 | （Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｒ５Ｃｐ）２Ｍの製造方法、及び製造装置 | 気相成長株式会社 | 2011年 9月15日 |
| 特開 2011-84507 | トリアルキルアルミニウムの製造方法 | 気相成長株式会社 | 2011年 4月28日 |
| 特開 2011-84504 | トリアルキルガリウムの製造方法、及び製造装置 | 気相成長株式会社 | 2011年 4月28日 |
| 特開 2011-9479 | 膜形成材料、膜形成方法、及び素子 | 気相成長株式会社 | 2011年 1月13日 |
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2011-178726 2011-84507 2011-84504 2011-9479
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