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出願人名に「ジェネラル・プラズマ・インコーポレーテッド」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-124168 | ビーム状プラズマ源 | ジェネラル・プラズマ・インコーポレーテッド | 2012年 6月28日 |
| 特表 2012-511242 | 自己浄化アノードを含む閉ドリフト磁場イオン源装置および同装置による基板改質プロセス | ジェネラル・プラズマ・インコーポレーテッド | 2012年 5月17日 |
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2012-124168 2012-511242
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