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エルピーイー・エッセ・ピ・ア
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第2574位 6件
（
2025年：第1443位 15件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第23208位 0件
（
2025年：第26521位 0件）
（ランキング更新日：2026年10月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エルピーイー・エッセ・ピ・アの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-171698 | 反応器の反応チャンバ内で基材を支持するための装置、およびそれを備える反応チャンバ | 2026年10月23日 | |
| 特開 2026-125595 | 複数の基板ホルダを保管するための保管システム | 2026年 8月 3日 | |
| 特開 2026-79768 | エピタキシャル反応器内の基材温度の原位置走査ための装置およびシステム | 2026年 5月15日 | |
| 特開 2026-53295 | 反応チャンバ部品からの炭化ケイ素膜の光子アシスト化学エッチング | 2026年 3月25日 | |
| 特開 2026-28237 | 反応器部品からの炭化ケイ素膜のエッチング | 2026年 2月19日 | |
| 特開 2026-12100 | 反応チャンバアセンブリ | 2026年 1月23日 |
6 件中 1-6 件を表示
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2026-171698 2026-125595 2026-79768 2026-53295 2026-28237 2026-12100
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