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エルピーイー・エッセ・ピ・ア
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1178位 8件
（
2024年：第7679位 2件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第14684位 0件
（2024年：第27650位 0件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エルピーイー・エッセ・ピ・アの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2025-78611 | 半導体膜のエピタキシャル堆積のための高速冷却反応器 | 2025年 5月20日 | |
| 特開 2025-76367 | 基板上への半導体材料のエピタキシャル堆積のための２室反応器 | 2025年 5月15日 | |
| 特開 2025-71013 | エピタキシャル堆積反応器で使用される基材の角速度測定システム | 2025年 5月 2日 | |
| 特開 2025-69089 | 半導体デバイスを製造するための装置 | 2025年 4月30日 | |
| 特開 2025-65032 | エピタキシャル反応器のためのウエハカセットのローディングおよびアンローディングシステム、ならびにエピタキシャル反応器 | 2025年 4月17日 | |
| 特開 2025-41560 | 反応チャンバ用の摺動スレッジを有する基材上の半導体材料のエピタキシャル堆積のための反応器 | 2025年 3月26日 | |
| 特開 2025-26342 | 活性層を順番に成長させるためのプロセス | 2025年 2月21日 | |
| 特開 2025-19007 | エピタキシャル反応器のためのウエハローディングおよびアンローディングシステム、ならびにエピタキシャル反応器 | 2025年 2月 6日 |
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2025-78611 2025-76367 2025-71013 2025-69089 2025-65032 2025-41560 2025-26342 2025-19007
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