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2020年:第1223位 15件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6986770 | 低粒子ガスエンクロージャシステムおよび方法 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6975463 | 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法 | 2021年12月 1日 | |
| 特許 6958915 | 改良された均一性および印刷速度で薄膜を製造するための技法 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6958942 | 印刷システムアセンブリおよび方法 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6955767 | インク送達システムおよび方法 | 2021年10月27日 | |
| 特許 6955790 | 電子デバイスのカプセル化のための装置および技術 | 2021年10月27日 | |
| 特許 6947355 | ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム | 2021年10月13日 | |
| 特許 6944197 | 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6912124 | 精密な公差内で流体を堆積させる印刷インク量制御のための技法 | 2021年 7月28日 | |
| 特許 6905761 | 印刷インク液滴測定および精密な公差内で流体を堆積する制御のための技法 | 2021年 7月21日 | |
| 特許 6902496 | ハーフトーニングを用いて厚さを制御するインクベース層加工 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6898000 | インクジェット印刷システムと共に使用するための印刷ヘッドユニットアセンブリ | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6867712 | OLEDスタック膜の品質査定のためのシステム、デバイス、および方法 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6871203 | 低粒子ガスエンクロージャシステムおよび方法 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6845829 | 改良された速度および正確さをともなう永久層の整列印刷のための技術 | 2021年 3月24日 |
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6986770 6975463 6958915 6958942 6955767 6955790 6947355 6944197 6912124 6905761 6902496 6898000 6867712 6871203 6845829
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
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