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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2162位 10件 (2020年:第2292位 9件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1853位 9件 (2020年:第1945位 8件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6971813 | 信号形成装置、復号装置、送信信号を形成する方法および速度データを求める方法 | 2021年11月24日 | |
特許 6957673 | 固体内に少なくとも1つの改質を形成する方法および装置 | 2021年11月 2日 | |
特許 6945585 | ワイドバンドギャップ半導体デバイスおよびワイドバンドギャップ半導体デバイスを形成する方法 | 2021年10月 6日 | |
特許 6895793 | 複数の信号経路を用いたセンサ自己診断 | 2021年 6月30日 | |
特許 6895939 | ハイエンドマイクロコントローラ用のマルチダイにおけるスケーラブルなマルチコア型のシステムオンチップアーキテクチャ | 2021年 6月30日 | |
特許 6877482 | レーダ信号の処理 | 2021年 5月26日 | |
特許 6861674 | ダイオード領域用のゲート電極とコンタクト構造とを含んでいるトレンチ構造を備えた半導体デバイス | 2021年 4月21日 | |
特許 6828087 | 発光ダイオードドライバ、発光ダイオードモジュールおよび相応のシステム | 2021年 2月10日 | |
特許 6810177 | 読み出し増幅器回路、メモリ装置、抵抗変化型メモリセルの状態値を求めるための方法、およびメモリ装置を動作させるための方法 | 2021年 1月 6日 |
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6971813 6957673 6945585 6895793 6895939 6877482 6861674 6828087 6810177
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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