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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特開 2011-225965 | 基板処理装置 | 株式会社フィルテック | 2011年11月10日 |
特開 2011-187545 | 高温加圧気密ガスによる搬送機構を備えた基板処理装置 | 株式会社フィルテック | 2011年 9月22日 |
特開 2011-70085 | 表面加熱装置 | 株式会社フィルテック | 2011年 4月 7日 |
特開 2011-49333 | 基板の両面加熱装置および加熱ガス吹き付け装置 | 株式会社フィルテック | 2011年 3月10日 |
特開 2011-1591 | ガス加熱装置 | 株式会社フィルテック | 2011年 1月 6日 |
特開 2011-2347 | 発光ダイオードとネットワークアナライアザーを用いる絶縁基板上薄膜の電気特性測定装置と製造装置 | 株式会社フィルテック | 2011年 1月 6日 |
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2011-225965 2011-187545 2011-70085 2011-49333 2011-1591 2011-2347
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