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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2007位 11件
(2020年:第2292位 9件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第3400位 4件
(2020年:第1660位 10件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2021-59355 | レンズ光学特性測定装置、レンズ光学特性測定方法、プログラム、及び、記録媒体 | 2021年11月11日 | |
再表 2021-59439 | 被検レンズ載置台及びレンズチェッカー | 2021年10月14日 | |
特開 2021-162813 | レンズ光学特性測定装置、眼鏡装用状態シミュレーション装置、眼鏡装用状態シミュレーションシステム、レンズ光学特性測定方法、眼鏡装用状態シミュレーション方法、プログラム、及び、記録媒体 | 2021年10月11日 | |
特開 2021-163823 | ウェハ処理装置、及び流体排出装置 | 2021年10月11日 | |
特開 2021-163905 | ウェハ処理装置 | 2021年10月11日 | |
再表 2021-59531 | レンズ光学特性測定装置、レンズ光学特性測定方法、プログラム、及び、記録媒体 | 2021年10月 7日 | |
特開 2021-147991 | セキュリティシステム | 2021年 9月27日 | |
再表 2021-38857 | レンズ光学特性測定装置、眼鏡装用状態シミュレーション装置、眼鏡装用状態シミュレーションシステム、レンズ光学特性測定方法、眼鏡装用状態シミュレーション方法、プログラム、及び、記録媒体 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-125576 | ウェハ処理装置 | 2021年 8月30日 | |
特開 2021-125667 | ウェハ処理装置 | 2021年 8月30日 | |
特開 2021-118329 | ウェハ処理装置 | 2021年 8月10日 | |
特開 2021-93389 | ウェハ処理装置 | 2021年 6月17日 |
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2021-59355 2021-59439 2021-162813 2021-163823 2021-163905 2021-59531 2021-147991 2021-38857 2021-125576 2021-125667 2021-118329 2021-93389
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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