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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第2497位 8件 (2019年:第7654位 2件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第4019位 3件 (2019年:第23568位 0件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6727193 | 高電圧フィードスルー・アセンブリ、電子回折または画像化装置、および真空環境において電極装置を操作する方法 | 2020年 7月22日 | |
特許 6695912 | レーザ・パルスを生成する方法、試料のスペクトル応答を得るための分光法、レーザ・パルス源装置、および分光装置 | 2020年 5月20日 | |
特許 6692822 | 試料スペクトル応答を測定するための方法および装置 | 2020年 5月13日 |
3 件中 1-3 件を表示
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6727193 6695912 6692822
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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