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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第4414位 4件 (2018年:第2064位 10件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1904位 8件 (2018年:第1416位 13件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6585082 | 加熱エレメントのための支持システムおよび加熱システム | 2019年10月 2日 | |
特許 6576449 | タンタルコンデンサの熱処理のための装入装置 | 2019年 9月18日 | |
特許 6564881 | X線陽極 | 2019年 8月21日 | |
特許 6559134 | クロム金属粉末 | 2019年 8月14日 | |
特許 6543728 | 円筒型ターゲット | 2019年 7月10日 | |
特許 6511056 | W−Niスパッタリングターゲット | 2019年 5月 8日 | |
特許 6479788 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2019年 3月 6日 | |
特許 6475829 | 層の製造方法 | 2019年 2月27日 |
8 件中 1-8 件を表示
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6585082 6576449 6564881 6559134 6543728 6511056 6479788 6475829
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