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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-241285 真空蒸着システムのためのインジェクター 2012年12月10日
特表 2012-531059 半導体ウエハ製造装置及び分子線を用いての蒸発により材料を蒸着させる装置 2012年12月 6日
特表 2012-530372 基板上に材料の薄膜を堆積させる装置及びそのような装置の再生方法 2012年11月29日
特表 2012-530371 半導体材料のウエハを製造するための分子線エピタキシー装置 2012年11月29日
特開 2012-136777 真空蒸着源のためのインジェクター 2012年 7月19日

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2012-241285 2012-531059 2012-530372 2012-530371 2012-136777

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