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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第2484位 8件
(2010年:第1716位 15件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1707位 13件
(2010年:第4188位 3件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2011-522960 | アーク蒸着による所定の構造を有する金属酸化物層の製造方法 | 2011年 8月 4日 | |
特表 2011-520033 | 被膜除去法および被膜除去液 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-126009 | AlCr含有の硬質材料層を有する工作物および製造方法 | 2011年 6月30日 | |
特表 2011-518949 | アーク蒸着による金属酸化物層の製造方法 | 2011年 6月30日 | |
特表 2011-505262 | PVD真空コーティングユニット | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-505074 | 成膜設備のためのフレームをベースとする真空チャンバ | 2011年 2月17日 | |
特表 2011-503350 | 電気絶縁層を析出する方法 | 2011年 1月27日 | |
特表 2011-502215 | 被処理面を作製するための方法および真空プラズマ源 | 2011年 1月20日 |
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2011-522960 2011-520033 2011-126009 2011-518949 2011-505262 2011-505074 2011-503350 2011-502215
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5月14日(水) -
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5月16日(金) - 東京 千代田区
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