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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特表 2014-533434 | 基板処理チャンバ内の寄生プラズマの機械的抑制 | ノべラス・システムズ・インコーポレーテッド | 2014年12月11日 |
特開 2014-170742 | 容量結合プラズマリアクタのための埋め込みRF電極を備えたセラミックシャワーヘッド | ノべラス・システムズ・インコーポレーテッド | 2014年 9月18日 |
特表 2014-509783 | ハイブリッドセラミックシャワーヘッド | ノべラス・システムズ・インコーポレーテッド | 2014年 4月21日 |
特表 2014-505362 | 半導体基板の可変密度プラズマ処理 | ノべラス・システムズ・インコーポレーテッド | 2014年 2月27日 |
特開 2014-12891 | 基板領域外の前駆体流およびプラズマを抑制することによる基板処理システム内の寄生成長の抑制 | ノべラス・システムズ・インコーポレーテッド | 2014年 1月23日 |
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2014-533434 2014-170742 2014-509783 2014-505362 2014-12891
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6月5日(木) -
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6月10日(火) -
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