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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
---|---|---|---|
特許 5599703 | オキシ窒化物スパッタリングターゲット | アッシュ・ウー・エフ | 2014年10月 1日 |
特許 5473614 | 少なくとも二つのプレートを組付ける方法及びイオンビームスパッタリング組付体を用意する方法の利用 | アッシュ・ウー・エフ | 2014年 4月16日 |
特許 5449197 | 絶縁基板上に薄層を堆積させることにより加熱素子を製造する方法、及びそれにより得られた素子 | アッシュ・ウー・エフ | 2014年 3月19日 |
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5599703 5473614 5449197
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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