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出願人名に「アッシュ・ウー・エフ」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5599703 | オキシ窒化物スパッタリングターゲット | アッシュ・ウー・エフ | 2014年10月 1日 |
| 特許 5473614 | 少なくとも二つのプレートを組付ける方法及びイオンビームスパッタリング組付体を用意する方法の利用 | アッシュ・ウー・エフ | 2014年 4月16日 |
| 特許 5449197 | 絶縁基板上に薄層を堆積させることにより加熱素子を製造する方法、及びそれにより得られた素子 | アッシュ・ウー・エフ | 2014年 3月19日 |
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5599703 5473614 5449197
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