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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
---|---|---|---|
特許 5560488 | 磁場分布測定装置 | 日本電磁測器株式会社 | 2014年 7月30日 |
特許 5531286 | 磁粉濃度測定装置及び磁粉濃度測定方法 | 日本電磁測器株式会社 | 2014年 6月25日 |
特許 5500475 | 二流体ノズル | 日本電磁測器株式会社 他 | 2014年 5月21日 |
特許 5484953 | 磁粉探傷試験方法 | 日本電磁測器株式会社 | 2014年 5月 7日 |
特許 5399782 | 磁化器及び磁粉探傷装置 | 日本電磁測器株式会社 | 2014年 1月29日 |
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5560488 5531286 5500475 5484953 5399782
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8月26日(火) -
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9月1日(月) - 東京 港区
特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
9月1日(月) -
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9月2日(火) -
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9月4日(木) -
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