ホーム > 特許ランキング > インターモレキュラー，インク． > 2011年 > 出願公開一覧
出願人名に「インターモレキュラー，インク．」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特表 2011-523772 | 半導体デバイスの形成電圧の低下 | インターモレキュラー，インク． | 2011年 8月18日 |
| 特表 2011-520035 | 組合わせプラズマ励起堆積技術 | インターモレキュラー，インク． | 2011年 7月14日 |
| 特表 2011-520265 | 不揮発性抵抗スイッチングメモリ | インターモレキュラー，インク． | 2011年 7月14日 |
| 特表 2011-520261 | 抵抗スイッチング特性を改善する表面処理方法 | インターモレキュラー，インク． | 2011年 7月14日 |
| 特表 2011-503345 | 組み合わせ処理システム | インターモレキュラー，インク． | 2011年 1月27日 |
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2011-523772 2011-520035 2011-520265 2011-520261 2011-503345
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