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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特許 4693683 | 薄膜成膜方法、磁気記録媒体の成膜方法および磁気記録ディスクの製造方法 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 2011年 6月 1日 |
特許 4681262 | 垂直磁気記録媒体の製造方法及び垂直磁気記録媒体の製造システム | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 2011年 5月11日 |
特許 4673779 | 磁気記録媒体の製造方法及び成膜装置 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 2011年 4月20日 |
特許 4657959 | 成膜装置及び磁気ディスクの製造方法 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 2011年 3月23日 |
特許 4654339 | 磁気ディスク | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 2011年 3月16日 |
特許 4654337 | 磁気記録媒体の製造方法、及び基板アダプタ | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 2011年 3月16日 |
特許 4654355 | 潤滑剤の選定方法、および磁気記録ディスクの製造方法 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 2011年 3月16日 |
特許 4634267 | 垂直磁気記録媒体 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 2011年 2月16日 |
特許 4623652 | 磁気記録ディスクの製造方法 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 2011年 2月 2日 |
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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