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アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー

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  2022年 出願公開件数ランキング    第1542位 15件 上昇2021年:第2840位 7件)

  2022年 特許取得件数ランキング    第3150位 5件 上昇2021年:第5804位 2件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2022-548419 無電解ニッケル合金メッキ浴、ニッケル合金の析出の方法、ニッケル合金析出物、及びこのように形成したニッケル合金析出物の使用 2022年11月18日
特表 2022-546769 金属基板の表面の摩擦係数を増加させるために金属基板の表面をコーティングするための有機溶媒ベースのコーティング組成物 2022年11月 8日
特表 2022-545796 高密度相互接続プリント回路板のための製造シーケンスおよび高密度相互接続プリント回路板 2022年10月31日
特表 2022-545091 銅で充填されたマイクロビアを含む高密度相互接続プリント回路基板の製造方法 2022年10月25日
特表 2022-538161 処理ステーションに物体を移動させるためのデバイスおよび方法、ならびに運搬システムおよび処理装置 2022年 8月31日
特表 2022-528995 半光沢ニッケル又は半光沢ニッケル合金コーティングを析出するためのガルバニックニッケル又はニッケル合金電気めっき浴 2022年 6月16日
特表 2022-527973 非導電性基材又は炭素繊維含有基材の表面を金属化のために活性化する方法 2022年 6月 7日
特表 2022-522789 金属と有機材料との間の接着強度を増加させる方法 2022年 4月20日
特表 2022-521646 水性後処理組成物及び腐食保護のための方法 2022年 4月11日
特表 2022-520963 プリント回路基板上の水溶性プリフラックス層に関する情報を取得する方法 2022年 4月 4日
特表 2022-518053 電解亜鉛ニッケル合金析出のための薄膜アノードシステム 2022年 3月11日
特表 2022-517368 銅表面に酸化銅を形成する方法 2022年 3月 8日
特表 2022-515055 パラジウム活性化層の堆積の前に使用する水性アルカリ前処理溶液、その方法及び使用 2022年 2月17日
特表 2022-511958 クロム層又はクロム合金層を析出させるための方法及びめっき装置 2022年 2月 1日
特表 2022-504886 銀、銀合金、金、又は金合金の表面を電解により不動態化するための方法 2022年 1月13日

15 件中 1-15 件を表示

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2022-548419 2022-546769 2022-545796 2022-545091 2022-538161 2022-528995 2022-527973 2022-522789 2022-521646 2022-520963 2022-518053 2022-517368 2022-515055 2022-511958 2022-504886

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