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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第3931位 5件 (2021年:第3677位 5件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第1898位 10件 (2021年:第1853位 9件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7125174 | メッシュ位置特定装置、印刷版作製システム、印刷版パターン作成装置、記憶媒体、メッシュ位置特定方法、印刷版作製方法、および印刷版パターン作成方法 | 2022年 8月24日 | |
特許 7114144 | 電子デバイスの製造方法、及び、デバイスチップの移載方法 | 2022年 8月 8日 | |
特許 7097656 | 電子部品移載方法、電子機器の製造方法、及び電子機器の製造装置 | 2022年 7月 8日 | |
特許 7082426 | 画像処理装置および画像処理方法 | 2022年 6月 8日 | |
特許 7082433 | 状態監視システム | 2022年 6月 8日 | |
特許 7078300 | 光造形装置 | 2022年 5月31日 | |
特許 7054962 | 容器ハンドリング方法及び自動計測装置 | 2022年 4月15日 | |
特許 7041940 | 回転処理用アダプタ | 2022年 3月25日 | |
特許 7023555 | 光造形装置および3次元造形物の製造方法 | 2022年 2月22日 | |
特許 7014480 | 光造形装置および3次元造形物の製造方法 | 2022年 2月 1日 |
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7125174 7114144 7097656 7082426 7082433 7078300 7054962 7041940 7023555 7014480
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9月25日(水) -
最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
9月25日(水) - 東京 港
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