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日本テキサス・インスツルメンツ株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第534位 70件
（
2016年：第491位 68件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第356位 78件
（
2016年：第383位 76件）
（ランキング更新日：2025年6月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日本テキサス・インスツルメンツ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2017-507502 | ＲＤＳ×ＣＧＤが改善されたＬＤＭＯＳトランジスタ、及びＲＤＳ×ＣＧＤが改善されたＬＤＭＯＳトランジスタを形成する方法 | 2017年 3月16日 | |
| 特表 2017-506432 | 半導体チップの端子を有するＤＣ−ＤＣコンバータ | 2017年 3月 2日 | |
| 特表 2017-505535 | ハイブリッドの高−ｋ ｆｉｒｓｔ及び高−ｋ ｌａｓｔリプレースメントゲートプロセス | 2017年 2月16日 | |
| 特表 2017-505097 | ゼロ電圧スイッチングのための装置および方法 | 2017年 2月 9日 | |
| 特表 2017-504192 | 埋め込みエピタキシャルファセットにおけるシリサイド及びコンタクトの形成 | 2017年 2月 2日 | |
| 特表 2017-504205 | ＴｉＮゲートを備えた高ｋ／金属ゲートＣＭＯＳトランジスタ | 2017年 2月 2日 | |
| 特表 2017-502302 | 負インピーダンス制御ループを備えた共振インピーダンス感知 | 2017年 1月19日 | |
| 特表 2017-502522 | 金属薄膜レジスタおよびプロセス | 2017年 1月19日 | |
| 特表 2017-502559 | 位相ノイズ相殺のための方法、システム、及び装置 | 2017年 1月19日 | |
| 特表 2017-500744 | リソ・フリーズ・リソ・エッチプロセスを用いる伸長コンタクト | 2017年 1月 5日 |
70 件中 61-70 件を表示
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2017-507502 2017-506432 2017-505535 2017-505097 2017-504192 2017-504205 2017-502302 2017-502522 2017-502559 2017-500744
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