出願人名に「リベル」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-241285 | 真空蒸着システムのためのインジェクター | リベル | 2012年12月10日 |
| 特表 2012-531059 | 半導体ウエハ製造装置及び分子線を用いての蒸発により材料を蒸着させる装置 | リベル | 2012年12月 6日 |
| 特表 2012-530371 | 半導体材料のウエハを製造するための分子線エピタキシー装置 | リベル | 2012年11月29日 |
| 特表 2012-530372 | 基板上に材料の薄膜を堆積させる装置及びそのような装置の再生方法 | リベル | 2012年11月29日 |
| 特開 2012-136777 | 真空蒸着源のためのインジェクター | リベル | 2012年 7月19日 |
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2012-241285 2012-531059 2012-530371 2012-530372 2012-136777
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