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出願人名に「フジフィルム・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・インコーポレイテッド」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5075921 | 多層リソグラフィプロセス用の高エッチング耐性下層組成物 | フジフィルム・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・インコーポレイテッド | 2012年11月21日 |
| 特許 5074529 | リソグラフィー用途のための熱硬化型下層 | フジフィルム・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・インコーポレイテッド | 2012年11月14日 |
| 特許 5030955 | 新規ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール前躯体組成物 | フジフィルム・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・インコーポレイテッド | 2012年 9月19日 |
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5075921 5074529 5030955
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