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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第5643位 3件
(
2016年:第1771位 13件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1911位 9件
(
2016年:第5777位 2件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6240333 | 熱遮蔽体及びそれを含むシリコン単結晶インゴット製造装置 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6240782 | ウェハー形状分析方法および装置 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6204500 | 単結晶成長装置 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6182677 | ウエハーの損傷深さを測定する方法 | 2017年 8月16日 | |
| 特許 6126310 | エピタキシャル反応器 | 2017年 5月10日 | |
| 特許 6118425 | 単結晶インゴット製造装置及び方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6118467 | エピタキシャル反応器 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6078172 | 引き込み装置及びこれを含む反応システム | 2017年 2月 8日 | |
| 特許 6059305 | ウエハ研磨装置 | 2017年 1月11日 |
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6240333 6240782 6204500 6182677 6126310 6118425 6118467 6078172 6059305
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