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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第2115位 10件
(2010年:第1188位 25件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1799位 12件
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-242774 | 露光領域間のパターンシフト量に対する測定方法及び測定マーク | 2011年12月 1日 | |
特開 2011-242779 | シフト・レジスタユニット、ディスプレー用ゲート駆動装置及び液晶ディスプレー | 2011年12月 1日 | |
特開 2011-155303 | TFT−LCDアレー基板及びその製造方法 | 2011年 8月11日 | |
特開 2011-70761 | シフト・レジスタおよびゲートライン駆動装置 | 2011年 4月 7日 | |
特開 2011-70194 | TFT−LCDアレイ基板及びその製造方法 | 2011年 4月 7日 | |
特開 2011-70200 | アレイ基板及びその製造方法 | 2011年 4月 7日 | |
特開 2011-65161 | アレイ基板及びその駆動方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-59686 | 液晶パネルマザー基板及びその製造方法 | 2011年 3月24日 | |
特開 2011-60411 | シフト・レジスタユニットおよび液晶ディスプレーのゲート駆動装置 | 2011年 3月24日 | |
特開 2011-23728 | TFT−LCDアレイ基板及びその製造方法 | 2011年 2月 3日 |
10 件中 1-10 件を表示
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2011-242774 2011-242779 2011-155303 2011-70761 2011-70194 2011-70200 2011-65161 2011-59686 2011-60411 2011-23728
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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