出願人名に「株式会社ユーテック」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 4841872 | 蒸発源及び蒸着装置 | 株式会社ユーテック | 2011年12月21日 |
| 特許 4831526 | 薄膜形成装置、及び薄膜形成方法 | 株式会社ユーテック 他 | 2011年12月 7日 |
| 特許 4804654 | 容器内面成膜用ＣＶＤ装置及び容器内面成膜方法 | 株式会社ユーテック | 2011年11月 2日 |
| 特許 4782277 | 赤外線カラー画像形成装置 | 株式会社ユーテック | 2011年 9月28日 |
| 特許 4759263 | ＣＶＤ成膜装置 | 株式会社ユーテック | 2011年 8月31日 |
| 特許 4753489 | ＤＬＣ被覆粉体の焼結体の製造方法 | 株式会社ユーテック | 2011年 8月24日 |
| 特許 4754282 | バケット式汚泥減容機及びバケット持上げ装置 | 株式会社ユーテック | 2011年 8月24日 |
| 特許 4740575 | 対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 | 株式会社ユーテック | 2011年 8月 3日 |
| 特許 4729035 | 加圧式ランプアニール装置 | 株式会社ユーテック | 2011年 7月20日 |
| 特許 4669120 | 歯科用インプラント及びその製造方法 | 株式会社ユーテック | 2011年 4月13日 |
| 特許 4621345 | プラズマＣＶＤ装置 | 株式会社ユーテック | 2011年 1月26日 |
| 特許 4608084 | 印刷版及びその製造方法 | 株式会社ユーテック | 2011年 1月 5日 |
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4841872 4831526 4804654 4782277 4759263 4753489 4754282 4740575 4729035 4669120 4621345 4608084
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