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三重富士通セミコンダクター株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第1994位 12件 上昇2016年:第2281位 9件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第5450位 2件 下降2016年:第3496位 4件)

(ランキング更新日:2025年2月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-224754 半導体装置の製造方法 2017年12月21日
特開 2017-211841 ダミーパターン発生方法 2017年11月30日
特開 2017-194291 プローブカード及びそれを用いた半導体装置の試験方法 2017年10月26日
特開 2017-191828 半導体集積回路及び半導体集積回路の設計方法 2017年10月19日
特開 2017-152473 リテーナリング、これを用いた研磨装置、及び半導体装置の製造方法 2017年 8月31日
特開 2017-147380 半導体装置及び半導体装置の製造方法 2017年 8月24日
特開 2017-134292 半導体装置の製造方法及びマスクの形成方法 2017年 8月 3日
特開 2017-55140 電界効果トランジスタ及びその製造方法 2017年 3月16日
特開 2017-44671 検査装置及び検査方法 2017年 3月 2日
特開 2017-46016 半導体チップ 2017年 3月 2日
特開 2017-33620 半導体記憶装置およびデータの読み出し方法 2017年 2月 9日
特開 2017-11207 固体撮像装置および遮光方法 2017年 1月12日

12 件中 1-12 件を表示

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2017-224754 2017-211841 2017-194291 2017-191828 2017-152473 2017-147380 2017-134292 2017-55140 2017-44671 2017-46016 2017-33620 2017-11207

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