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出願人名に「株式会社ケミトロニクス」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 4783222 | 接合装置 | 株式会社ケミトロニクス 他 | 2011年 9月28日 |
| 特許 4754207 | 熱処理システム | 株式会社ケミトロニクス | 2011年 8月24日 |
| 特許 4625153 | プラズマエッチング装置およびこれを用いたエッチングの方法 | 株式会社ケミトロニクス | 2011年 2月 2日 |
3 件中 1-3 件を表示
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4783222 4754207 4625153
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