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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第5914位 2件 (2023年:第3738位 5件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第1746位 8件 (2023年:第10364位 1件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2024-82013 | 画像処理装置、特徴抽出器の学習方法、識別器の更新方法、および画像処理方法 | 2024年 6月19日 | |
特開 2024-81089 | 物体検出方法及びコンピュータプログラム | 2024年 6月17日 | |
特開 2024-40219 | 酸化ガリウム半導体膜の製造方法及び酸化ガリウム半導体膜 | 2024年 3月25日 | |
特開 2024-31637 | 発電装置 | 2024年 3月 7日 | |
特開 2024-11077 | 断層画像の解析方法、解析装置、及びコンピュータプログラム | 2024年 1月25日 |
5 件中 1-5 件を表示
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2024-82013 2024-81089 2024-40219 2024-31637 2024-11077
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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9月25日(水) - 愛知 名古屋市
9月25日(水) - 東京 千代田区
9月25日(水) - 東京 千代田区
9月26日(木) -
9月26日(木) -
9月27日(金) -
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9月27日(金) - 東京 港区
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