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出願人名に「多摩化学工業株式会社」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 4755746 | 半導体ウエハ表面の不純物測定方法及びそのための不純物回収装置 | 多摩化学工業株式会社 | 2011年 8月24日 |
| 特許 4731384 | 酸性で安定なコロイダルシリカの製造方法 | 多摩化学工業株式会社 | 2011年 7月20日 |
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4755746 4731384
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