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出願人名に「盟智科技股▲ふん▼有限公司」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5632428 | 金属イオンを吸着したシリカおよびその製造方法 | 盟智科技股▲ふん▼有限公司 | 2014年11月26日 |
| 特許 5613283 | 研磨スラリー組成物 | 盟智科技股▲ふん▼有限公司 | 2014年10月22日 |
| 特許 5567293 | 二段階で銅を除去する化学機械研磨工程の両段階における金属層を平坦化するための研磨組成物 | 盟智科技股▲ふん▼有限公司 | 2014年 8月 6日 |
| 特許 5567261 | 化学機械研磨の構成物 | 盟智科技股▲ふん▼有限公司 | 2014年 8月 6日 |
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5632428 5613283 5567293 5567261
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