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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特表 2013-531794 | パターン化構造の光学検査を最適化するための方法およびシステム | ノヴァ・メジャーリング・インストゥルメンツ・リミテッド | 2013年 8月 8日 |
特表 2013-520674 | パターン化された構造を測定するための方法およびシステム | ノヴァ・メジャーリング・インストゥルメンツ・リミテッド | 2013年 6月 6日 |
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2013-531794 2013-520674
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5月28日(水) - 東京 港区
5月28日(水) - 東京 千代田区
5月28日(水) - 東京 中央区
5月28日(水) -
5月28日(水) -
5月29日(木) - 東京 港区
5月29日(木) - 東京 品川区
5月29日(木) - 東京 新宿区
5月29日(木) -
5月29日(木) -
5月30日(金) -
5月30日(金) -
5月28日(水) - 東京 港区
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
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