ホーム > 特許ランキング > アセルタ ナノグラフィクス > 2017年 > 出願公開一覧
アセルタ ナノグラフィクス
※ ログインすれば出願人(アセルタ ナノグラフィクス)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2017年 出願公開件数ランキング 第5643位 3件
（
2016年：第4224位 4件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第8798位 1件
（
2016年：第24808位 0件）
（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
アセルタ ナノグラフィクスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2017-523615 | ＩＣ製造プロセスモデルのパラメータを決定するための方法 | 2017年 8月17日 | |
| 特表 2017-520021 | 差分手順によりＩＣ製造プロセスのパラメータを判断する方法 | 2017年 7月20日 | |
| 特表 2017-520117 | ＩＣ製造工程の数値指標を計算する方法 | 2017年 7月20日 | |
| 特開 2017-76786 | 粒子ビームまたは光子ビームによる直接描画時のショット計数を低減させる方法 | 2017年 4月20日 |
4 件中 1-4 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2017-523615 2017-520021 2017-520117 2017-76786
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アセルタ ナノグラフィクスの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月10日(月) - 大阪 大阪市
3月11日(火) - 東京 港区
3月11日(火) - 大阪 大阪市
特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ～コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説～
3月12日(水) - 東京 港区
3月12日(水) -
3月12日(水) - 愛知 名古屋市中区
3月12日(水) -
3月12日(水) -
3月13日(木) - 東京 港区
3月13日(木) -
3月13日(木) -
3月14日(金) -
3月10日(月) - 大阪 大阪市
