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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特許 4758055 | マイクロエレクトロニクス基板洗浄用の安定化アルカリ性組成物 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 8月24日 |
特許 4753986 | 基板適合性が改善されたアンモニア不含アルカリ性マイクロエレクトロニクス洗浄組成物の使用 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 8月24日 |
特許 4677030 | 電気化学的腐食を阻害する非水性フォトレジスト剥離剤 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 4月27日 |
特許 4671575 | 超小型回路基板からナトリウム含有材料を除去するための方法および組成物 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 4月20日 |
特許 4633785 | ナノエレクトロニクスおよびマイクロエレクトロニクスの洗浄組成物 | アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ・インコーポレイテッド | 2011年 2月16日 |
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4758055 4753986 4677030 4671575 4633785
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4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
4月2日(水) -
4月2日(水) -
4月4日(金) -
4月1日(火) - 山口 山口市
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
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4月11日(金) -
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