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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第7297位 2件 (2015年:第4198位 4件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第3496位 4件 (2015年:第23268位 0件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5912666 | 計測装置及びその処理方法 | 2016年 4月27日 | |
特許 5849249 | 出力補正装置、方法、およびプログラム | 2016年 1月27日 | |
特許 5842305 | 出力補正装置、方法、プログラム、および撮像システム | 2016年 1月13日 | |
特許 5842306 | マスキング処理装置、処理方法、処理プログラム、および所持物検出装置 | 2016年 1月13日 |
4 件中 1-4 件を表示
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5912666 5849249 5842305 5842306
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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