ホーム > 特許ランキング > ルメンタム オペレーションズ エルエルシー > 2019年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(ルメンタム オペレーションズ エルエルシー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2019年 出願公開件数ランキング 第2345位 9件 (2018年:第5373位 3件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第8774位 1件 (2018年:第2781位 5件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2019-140383 | 光増幅器用内蔵コンポーネント | 2019年 8月22日 | |
特開 2019-75529 | 垂直共振器面発光レーザ薄型ウエハの反り制御 | 2019年 5月16日 | |
特開 2019-62188 | 垂直共振器面発光レーザのビーム広がり制御 | 2019年 4月18日 | |
特開 2019-49695 | 電子吸収変調器用の電子吸収バイアス回路 | 2019年 3月28日 | |
特開 2019-49698 | クラッド光除去器 | 2019年 3月28日 | |
特開 2019-40183 | IQ位相変調器のための閉ループ直交バイアス制御 | 2019年 3月14日 | |
特開 2019-35947 | 回折光学素子用多層薄膜積層体 | 2019年 3月 7日 | |
特開 2019-35954 | 多レベル回折光学素子の薄膜コーティング | 2019年 3月 7日 | |
特開 2019-36718 | 水平ウェーハの垂直スタックを用いたウェーハ表面特徴の横方向酸化の均一性制御 | 2019年 3月 7日 |
9 件中 1-9 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2019-140383 2019-75529 2019-62188 2019-49695 2019-49698 2019-40183 2019-35947 2019-35954 2019-36718
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ルメンタム オペレーションズ エルエルシーの知財の動向チェックに便利です。
1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
東京都千代田区岩本町2-19-9 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都武蔵野市吉祥寺本町1丁目35-14-202 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 鑑定 コンサルティング
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定