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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「フューテック」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-253308 | ＣＩＧＳスパッタリングターゲットの製造方法 | 株式会社フューテックファーネス | 2013年12月19日 |
| 特開 2013-42580 | 高電圧発生装置 | フューテックス株式会社 他 | 2013年 2月28日 |
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2013-253308 2013-42580
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