出願人名に「株式会社アドテック」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-235342 | 露光描画装置、露光描画方法およびプログラム | 株式会社アドテックエンジニアリング | 2014年12月15日 |
| 特開 2014-206648 | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 2014年10月30日 |
| 特開 2014-199298 | 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 2014年10月23日 |
| 特開 2014-164027 | 露光光学系、露光ヘッドおよび露光装置 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 2014年 9月 8日 |
| 特開 2014-137420 | ＩＴＯパターン露光装置 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 2014年 7月28日 |
| 特開 2014-92768 | 吸着プレート | 株式会社アドテックエンジニアリング | 2014年 5月19日 |
| 特開 2014-89360 | フィルムマスク修正装置 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 2014年 5月15日 |
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2014-235342 2014-206648 2014-199298 2014-164027 2014-137420 2014-92768 2014-89360
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