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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第12799位 1件
(2016年:第5242位 3件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第4057位 3件
(2016年:第9250位 1件)
(ランキング更新日:2025年4月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6157482 | プラズマ浸漬モードにおけるイオン注入装置の制御方法 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6114262 | 低圧法用のプラズマ浸漬モードにおけるイオン注入装置 | 2017年 4月12日 | |
特許 6096803 | 静電基板保持具を含む支持具 | 2017年 3月15日 |
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6157482 6114262 6096803
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4月4日(金) -
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4月9日(水) -
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4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー|知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時~〉
4月11日(金) -
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