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ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

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  2026年 出願公開件数ランキング    第587位 6件 上昇2025年:第1982位 10件)

  2026年 特許取得件数ランキング    第1845位 1件 下降2025年:第1083位 18件)

(ランキング更新日:2026年2月13日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2026-17537 レーザーマイクロダイセクションシステムおよび方法 2026年 2月 4日
特開 2026-10194 解像度を改善するための斜め平面顕微鏡用の光学アセンブリ 2026年 1月21日
特開 2026-8943 画像走査型顕微鏡および方法 2026年 1月19日
特開 2026-9088 画像を分離するためのデバイスおよび方法 2026年 1月19日
特開 2026-9089 染色されたサンプルにおける蛍光体のスペクトル情報を特定するための方法および装置 2026年 1月19日
特開 2026-4264 検出装置、カスケード型検出装置および光学走査顕微鏡 2026年 1月14日

6 件中 1-6 件を表示

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2026-17537 2026-10194 2026-8943 2026-9088 2026-9089 2026-4264

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