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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第1158位 22件 (2019年:第1534位 16件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1945位 8件 (2019年:第1210位 15件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6782239 | パターン光を用いた深さマップを提供するための方法およびシステム | 2020年11月11日 | |
特許 6741649 | シリコン上のカラーILEDディスプレイ | 2020年 8月19日 | |
特許 6741659 | ディスプレイ、そのLEDチップ、そのピクセル、その制御方法、及びそのコンピュータプログラム | 2020年 8月19日 | |
特許 6717804 | 3D感知用構造化光 | 2020年 7月 8日 | |
特許 6683838 | 冗長発光デバイスを備えるディスプレイ | 2020年 4月22日 | |
特許 6654625 | 仮想現実環境において遮られた顔部分を再構築する方法およびシステム | 2020年 2月26日 | |
特許 6628793 | 眼球輻輳に基づいたディスプレイ視認性 | 2020年 1月15日 | |
特許 6629478 | 抵抗容量型変形センサ | 2020年 1月15日 |
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6782239 6741649 6741659 6717804 6683838 6654625 6628793 6629478
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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