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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第3677位 5件 (2020年:第12781位 1件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第4240位 3件 (2020年:第24204位 0件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2021-534071 | チャンバーシールアセンブリ及び成長炉 | 2021年12月 9日 | |
特表 2021-534578 | チャンバー冷却装置及び半導体加工設備 | 2021年12月 9日 | |
特表 2021-530104 | 基板を操作するための機器 | 2021年11月 4日 | |
特表 2021-528862 | 非接触式基板操作機器及びエピタキシャルリアクタ | 2021年10月21日 | |
特表 2021-525459 | 非プラズマエッチング方法 | 2021年 9月24日 |
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2021-534071 2021-534578 2021-530104 2021-528862 2021-525459
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
9月25日(水) - 東京 港
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9月25日(水) - 東京 千代田区
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9月26日(木) -
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9月27日(金) - 東京 港区
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