公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
---|---|---|---|
特許 5095418 | 撥水性無機粉体 | AGCエスアイテック株式会社 | 2012年12月12日 |
特許 5068978 | 大細孔径多孔質シリカゲルの細孔物性の調整方法及び得られた大細孔径多孔質シリカゲル | AGCエスアイテック株式会社 | 2012年11月 7日 |
特許 4966257 | エナメル線の製造方法 | 東芝アイテック株式会社 他 | 2012年 7月 4日 |
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5095418 5068978 4966257
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8月26日(火) - 東京 港区
8月26日(火) - 東京 品川
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8月26日(火) -
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8月26日(火) - 東京 港区
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9月1日(月) - 東京 港区
特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
9月1日(月) -
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9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
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9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
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9月5日(金) -
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